2017年10月12日-13日，首屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(huì )在北京國際會(huì )議中心舉行，由集成電路產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng )新戰略聯(lián)盟主辦，中國科學(xué)院微電子研究所承辦，中芯國際(SMIC)、長(cháng)江存儲(YMTC)、華虹集團、Mentor、ASML、KLA Tencor、南大光電(Nata)、上海微電子裝備(集團)股份有限公司(SMEE)、Synopsys、Toppan、JSR、東方晶源、沈陽(yáng)芯源贊助。會(huì )議共有200余人參會(huì )，分別來(lái)自中國、美國、德國、日本等世界各地眾多名企、廠(chǎng)商、科研機構、高校等。我公司董事秦怡生、副總經(jīng)理楊建國參加了本次研討會(huì )。

　　大會(huì )主席、集成電路產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng )新戰略聯(lián)盟理事長(cháng)、科技部原副部長(cháng)曹健林，國家外專(zhuān)局原局長(cháng)馬俊如，科技部重大專(zhuān)項辦副巡視員、02專(zhuān)項實(shí)施管理辦公室副主任邱鋼先后為大會(huì )致開(kāi)幕詞，大會(huì )副主席、中科院微電子研究所所長(cháng)葉甜春就當前行業(yè)趨勢做了分析報告，大會(huì )秘書(shū)長(cháng)、中科院微電子研究所計算光刻研發(fā)中心主任韋亞一研究員主持開(kāi)幕式。按照大會(huì )安排，在這兩天的時(shí)間里，來(lái)自Intel、IBM、Qualcomm(高通)、AMD、ASML、SMIC等公司的特邀嘉賓分別就擬定的主題做了特邀報告，深入分析了光刻領(lǐng)域先進(jìn)節點(diǎn)的技術(shù)手段和解決方案，內容豐富，包含7nm及以下節點(diǎn)的計算光刻技術(shù)、SMO、DTCO、EUV、DSA、Design rules、光刻設備、材料等。會(huì )后，參會(huì )嘉賓進(jìn)行合影留念。